光刻機霸主阿斯麥封神之路 (第3/6頁)
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其實，在與飛利浦合資成立阿斯麥之前約10年的1975年，asi就曾在香港開設辦公室。最初，asi香港辦公室只負責銷售，隨著時間推移，該辦公室發展出了生產能力。1988年，asi在香港辦公室的基礎上成立了新公司aspt（aspacifictechnology，直譯為as太平洋技術）。到今天，aspt已成長為全球最大的半導體組裝和封裝技術供應商之一。
作為站在阿斯麥、asi、aspt背後的操盤手，arthurdelprado成為一代業界傳奇，被譽為“歐洲半導體裝置行業之父”。2016年，這位傳奇人物以85歲高齡逝世，但與他淵源頗深的三家半導體公司仍在創造新故事。arthur的長子chuckdelprado，於2008年接替arthur繼任為asiceo，並於2019年退休。asi現任ceo是benjaloh。aspt現任ceo是robng。
回到阿斯麥的故事，飛利浦同意出資210萬美元成立阿斯麥，但拒絕提供更多資金和辦公場地。成立之初的阿斯麥只有31名員工，由於沒有辦公室，這31名員工就窩在飛利浦大廈外的簡易木板房裡辦公。當時，飛利浦絕不會想到，這個幾乎被當作“棄子”的專案和退而求其次選擇的小公司，孕育出的是能把尼康拉下馬的光刻機新星。
如前所說，20世紀80年代還是光刻機的技術紅利期。在乾式微影技術的技術路線下，阿斯麥成立的第一年就造出了步進式掃描光刻機pas2000。但是，技術的紅利期很快就會過去，之後發生的一切會造就光刻機市場的新格局。
進入21世紀，為了延續摩爾定律，人們改進了電晶體架構方式，但光刻機光源波長卡在了193n上。這造成的後果是光刻“畫”出的線條不夠細緻，阻礙電晶體架構的實現。要解決這個問題，最直接的方式就是把光源波長縮短，比如尼康、svg等廠商試圖採用157n波長的光線。
實踐中，實現157n波長的光刻機並不容易。首先，157n波長的光線極易被193n光刻機使用的鏡片吸收；其次，光刻膠也要重新研發；另外，相比於193n波長，157n波長進步不到25，回報率較低。但在當時，這似乎是唯一的辦法。
到了2002年，時任臺積電研發副經理林本堅提出：為什麼非要改變波長？在鏡頭和光刻膠之間加一層光線折射率更好的介質不就行了？那麼什麼介質能增加光的折射率呢？林本堅說，水就可以。與乾式光刻技術相對，林本堅的技術方案被稱為浸沒式光刻技術。經過水的折射，光線波長可以由193n變為132n。
時間再往回推15年（1987年），林本堅就職於ib，那時他就有了浸沒式光刻技術的想法。2002年晶片製程卡在65n之際，林本堅看到了浸沒式光刻技術的機會。為了解決技術難題、消除廠商疑慮，林本堅花費半年時間帶領團隊發表3篇論文。
當時，業界質疑水作為一種清潔劑，會把鏡頭上的髒東西洗出來，還有人擔憂水中的氣泡、光線明暗等因素會影響折射效果。根據林本堅團隊的研究，他們提出了一種曝光機，可以保持水的潔淨度和溫度，使水不起氣泡。雖然這種曝光機並未在實際中被採用，但林本堅的研究證明了技術上的難題是可以被解決的。
他還親自奔赴美國、rb、德國、荷蘭等地，向光刻機廠商介紹浸沒式光刻的想法。但是，有能力進行研發的大廠普遍不買賬。
箇中原因也不難理解，自20世紀60年代起，玩家入局光刻機市場，在乾式光刻技術上投入了大量財力、人力、物力，好不容易踏出一條可行的技術路線。如果按照林本堅“加水”的想法，各位前輩就得“一夜回到解放前”
