光刻機霸主阿斯麥封神之路 (第2/6頁)
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利潤為252億歐元。相比之下，尼康出貨46臺，佳能出貨84臺。
除了出貨量佔優，阿斯麥（asl）也代表著全球最頂尖的光刻技術。在阿斯麥2019年賣出的229臺光刻機中，有26臺是當今最高階的euv（極紫外線）光刻機。而在euv光刻市場，阿斯麥是唯一的玩家。
euv光刻機採用135n波長的光源，是突破10n晶片製程節點必不可少的工具。也就是說，就算duv（深紫外線）光刻機能從尼康、佳能那裡找到替代，但如果沒有阿斯麥的euv光刻機，晶片巨頭臺積電、三星、英特爾的5n產線就無法投產。
時間邁進2020，光刻機市場三分的格局中，阿斯麥已穩居第一10多年。在“光刻機一哥”光環的背後，阿斯麥又有怎樣的故事？
智東西從技術路線選擇、先進技術攻關、資金支援、研發投入等方面入手，還原出這個故事真實、立體的脈絡。
二、與臺積電鬼才相互成就，21世紀阿斯麥冉冉升起
羅馬不是一天建成的，阿斯麥的成功也絕非一蹴而就。今日風頭無兩的光刻機市場一哥背後，是一個卑微的開始和一段曲折的往事。
故事要從20世紀80年代講起，那時候距離摩爾定律被正式提出（1975年）不到10年，增加晶片電晶體數目還不是讓全球半導體學者擠破頭的課題。相應地，對光刻機光源波長的要求較低。當時的光刻機採用乾式微影技術，簡言之，光源發光，光線在塗有光刻膠的矽基底上“畫”就完了。
比如，1980年尼康推出的可商用步進式重複式光刻機（stepper），光源波長為1微米。連晶片廠家英特爾也自己設了個光刻機部門，用買來的零件組裝光刻機。
通俗來說，步進式重複光刻機的工作原理是使塗有光刻膠的矽片與掩膜板對準並聚焦，透過一次性投影，在晶圓片上刻畫電路。
在這種背景下，荷蘭電子產品公司飛利浦在實驗室鼓搗出了步進式掃描光刻技術的雛型，但拿不準這項技術的商業價值。思前想後，它決定拉人入夥，讓合作者繼續研發，這樣既有人分攤成本，也給了自己觀望的機會。
步進式掃描光刻技術的原理是，光線透過掩膜板上的狹縫照射，晶圓與掩膜板相對移動。完成當前掃描後，晶圓由工作臺承載，步進至下一步掃描位置，進行重複曝光。整個過程經過重複步進、多次掃描曝光。
在飛利浦的設想裡，理想的合夥人當然是技術先進、實力雄厚的美國大廠，如ib、gca之流。但在美國走了一圈後，飛利浦意識到了現實的骨感：各大廠商紛紛表示拒絕。
但是，並非所有人都不看好飛利浦的光刻專案，就在飛利浦碰壁之際，荷蘭小公司asi（asternational，直譯為as國際）的老闆arthurdelprado跑來，自薦要接下飛利浦的光刻專案。
asternational創立於1964年，是一家半導體裝置代理商，對製造光刻機並無經驗。因此，飛利浦猶豫了1年的時間。最終，1984年，飛利浦選擇“屈就”，同意與asi公司各自出資210萬美元，合資成立阿斯麥，由這才開啟了阿斯麥的故事。
阿斯麥首任ceo為gjaltsit，任職時間為1984～1988年。據稱，由於阿斯麥成立初期知名度較低，gjaltsit曾在未經授權的情況下在阿斯麥招聘廣告中使用飛利浦的標誌。
2013年至今，阿斯麥總裁兼ceo由peterwennk擔任。peterwennk早在1999年就加入了阿斯麥，曾擔任過執行副總裁、首席財務官等職。在加入阿斯麥之前，peter就職於全球四大會計師事務所之一的德勤會計師事務所
