第四十四章 臨時想到的偽裝計劃 (第1/2頁)

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許秋將蝕刻失敗的基片處理掉，開始思考失敗的原因。

一方面可能是蝕刻時間過長；

另一方面可能是膠布與基片之間存在有氣泡，或者它們的間隙過大。

再次實驗。

許秋又取來三片pen基片，用3電工膠布貼好圖案後，反覆用鑷子按壓膠布的所在部位，使之與基片儘量貼合。

然後，他在三個新的一次性塑膠杯中加入稀鹽酸，並倒入兩勺鋅粉。

等待五秒鐘後，他將三片基片各自放入一個塑膠杯中，同時按下秒錶。

每隔40秒鐘，撈出一片基片，隨後用去離子水沖洗乾淨，撕下上面貼有的3電工膠布。

許秋透過肉眼觀察，蝕刻時間為40秒、80秒的基片，均得到了完好的圖案。

而蝕刻時間為120秒的基片，ito圖案的邊緣有被酸液腐蝕的痕跡，不過相較於上一次實驗，痕跡變得不明顯。

這說明將膠布與基片緊密貼合，對於防止酸液滲入膠布下面起到了一定的作用。

肉眼可能會騙人，為了確保蝕刻成功，許秋從工具箱中取出萬用表，測量基片上被蝕刻部位的導通情況。

將萬用表調至導通模式，如果兩個紅黑表筆之間的電阻很小，萬用表就會發出“滴”的聲音。

經過檢測，三個基片被蝕刻部位都是不導通的，而ito本身是良好的導體，這表明裸露在外的ito成功被蝕刻。

因此，蝕刻時間為40秒和80秒的條件都是可行的。

許秋最終選擇了一箇中間值，蝕刻1分鐘。

…………

摸索好實驗條件後，許秋製備了12片圖案化的pen/ito基片。

雖然中途有一片因為膠布沒有粘牢而失敗了，但是不影響大局。

隨後，他用異丙醇清洗基片，接著用氮氣槍吹乾，裝入培養皿中。

接下來的旋塗操作，許秋又遇到了新的問題。

pen基片無法被勻膠機上方的平臺吸牢，在高速旋轉的過程中，基片有時會直接飛出去。

許秋想了想，將pen基片貼在了與之同等大小的玻璃片上，然後再進行旋塗。

順利解決問題。

塗好pedot:pss後，許秋將基片上的玻璃片取下，然後在100攝氏度下退火，擦片。

之後，他又重新在基片上貼好玻璃片，傳入旋塗的手套箱內。

陳婉清看到後，好奇問道：“許秋，這是什麼，玻璃片上貼著……pen基片嗎？”

“沒錯，我已經找到蝕刻pen基片的方法了，溼法蝕刻，用3膠布貼好，控制好時間就行了，”許秋道：

“下面貼一塊玻璃是為了方便旋塗。”

“好呀，等下準備塗什麼有效層啊？”陳婉清道。

“學姐給我點ptb7-th的溶液用用唄，還有旋塗方法也告訴我吧。”許秋道。

“溶液在加熱攪拌臺上，應該還有500微升，足夠你用了，”陳婉清道：

“實驗條件的話，我等下寫在便籤紙上給你，現在快吃午飯了，等吃完飯回來再做實驗吧。”

…………

下午，還不到一點鐘，許秋便拿著學姐的便籤紙，進入手套箱中。

沒辦法，旋塗的手套箱可是香餑餑，他怕到一點半的時候搶不到手套箱的使用權。

許秋看了一眼學姐的實驗條件：

“氯苯溶劑，15毫克每毫升，給受體比例1:1，2000轉速，05體積分數的dio，不退火。”

可以直接拿來使用，只需要調控一下轉速即可。

溶液在放置和使用過程中，因