839 最後的戰役（二） (第1/4頁)
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滬市，張江技術園區。
中微半導體總部的四周，佈置了密密麻麻的電網和監控器，安保力量更是配備齊全。
一座不起眼的工廠裡，沙領導、鄭韓等一眾領導，在陸飛的帶領下，來到車間外。
隔著玻璃窗，就能看到一個巨型公交車大小的光刻機，身穿防塵服的工作人員正在操控這樣的龐然大物，一個工作臺完成掃描曝光的同時，另一個工作臺也進行對準、調焦、下片等行動。
“因為晶片製造的過程中，並不是一次曝光就可以完成，而是需要經歷多次曝光。”
“在曝光完一個區域之後，放置矽晶圓的曝光臺就必須快速進行移動，接著曝光下一個需要曝光的區域，想要在這麼多次快速移動中實現奈米級別的對準，雙工作臺就必須做到精度高而且操作時間短，這項技術本來只有asl有，但現在已經被我們突破了。”
陸飛滔滔不絕，如數家珍。
領導們一言不發，目不轉睛地盯著執行中的光刻機，雖然不是第一次見到光刻機，但一想到這是第一臺國產的duv浸潤式光刻機，都壓不住激動的心情，儘可能地往前靠，想湊得更一些，看得更清楚一些。
“了不起啊，小陸，你們了不起啊。”
沙領導滿意道：“我記得是7年前還是8年前，也是在這裡，你讓我看的是65n乾式光刻機，還向我保證絕對能搞出屬於我們自己的國產的浸潤式光刻機，我本來以為要花10年甚至更長的時間，沒想到你給了我們一個大大的驚喜啊！這麼快讓你們搞出來了！”
“哪裡，哪裡，領導。”
陸飛露出謙虛而內斂的笑容。
“說說吧，到底是怎麼搞出來的？”
沙領導眼裡滿是讚賞之色。
“其實這並不是邏輯和中微兩家的功勞，我們只負責整體的統籌排程和整合研發。”
陸飛笑道：“duv浸潤式光刻機能成功，完完全全歸功於參與到整個專案的全體員工、科研人員們，是他們的血汗和信念，才有了今天的光刻機，當然也離不開領導們的支援，地方上的政策，還有相關公司、院校、國企單位的合作。”
頓了頓，“可以說，這臺duv浸潤式光刻機凝結了華夏半導體從業人員的智慧和野心，也代表著目前國內光刻機的最高水平，距離國際一線的euv光刻機，只有一代的代差了。”
“生產7n的良品率是多少？”
鄭韓臉上掛著得意的笑容。
畢竟，如此國之重器出自張江技術園區，滬市毫無疑問當得上“華夏半導體之都”。
“不同的晶片不同的良率，但基本能穩定在70，慢慢除錯改進，可以達到80。”
陸飛比比畫畫道：“完全可以比肩asl，只用4個光罩、4次曝光，就可以達到7n製程工藝。”
沙領導問道：“現在邏輯和華為的手機用的都是7n製程工藝的晶片對嗎？”
陸飛點了下頭，“沒錯，7n是目前市面上最先進的製程工藝，不過根據摩爾定律，再過個一兩年，就可能突破到5n。”
“5n是不是就需要euv光刻機了？”
鄭韓好奇道。
“有euv光刻機固然是好，只要一次曝光，一個光罩就能實現7n、5n，但沒有euv光刻機也無妨，有這臺duv浸潤式光刻機也可以做到。”
陸飛露出個看似輕鬆的笑容。
“喔？”
頃刻間，一眾領導的目光齊聚於他。
“梁博士想到的方案，如果把光刻機極限使用，經過6個光罩，9次曝光，也可以實現5n工藝。”陸飛直截了當地回答。
一個戴著玳瑁眼鏡的領導擔憂道
