第244章 強烈反對 (第1/2頁)

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第一階段：技術預研與團隊組建

許志遠首先意識到，光刻機的研發需要一支專業的團隊，而目前研究所內的技術人員雖然有一定基礎，但對於這麼高精尖的裝置，仍然顯得經驗不足。

他決定從以下幾個方向入手：

從全國範圍內篩選頂尖的光學、機械、材料學、控制工程領域的專家。

組建跨學科研發小組，分工明確，包括光源研發組、光學系統組、掩模版設計組、機械控制組、化學處理組等。

邀請高校的科研力量參與，例如龍國科學院、清華大學等頂尖學府中的專家教授。

“一個人再聰明，也搞不定光刻機這種技術怪獸。”許志遠心裡明白，團隊協作是關鍵。

第二階段：光刻機的核心技術攻關

根據系統提供的資料，許志遠將光刻機的關鍵技術分為以下幾個模組，並提出了每個模組的攻關目標：

光源系統：

使用193奈米深紫外（dUV）光源作為第一代光刻機的核心光源。

攻克高功率鐳射器的設計難點，確保光源的穩定性和高能量輸出。

高效率的光束整形系統，保證光線均勻分佈。

光學投影系統：

引進超高精度的光學鏡片，要求達到亞奈米級的加工精度。

研發多層反射鏡技術，提高光線的利用率和成像精度。

機械控制系統：

設計高精度的步進掃描平臺，確保矽片移動誤差低於1奈米。

開發全新的伺服控制系統，實現實時動態校準。

掩模版與化學處理：

製造高精度的掩模版，確保晶片電路圖案的完整性。

研發新型光刻膠和蝕刻液，保證圖案轉移的清晰度和穩定性。

第三階段：樣機制造與測試

樣機設計：基於攻克的核心技術，設計並製造第一代光刻機原型機。

矽片加工測試：透過樣機對矽片進行光刻測試，評估電路刻蝕的精度和良率。

最佳化迭代：根據測試結果，不斷最佳化光源、鏡片、掩模版等核心部件，提升裝置的效能和穩定性。

第四階段：量產與工業化推廣

量產計劃：在第一代光刻機樣機透過測試後，制定量產計劃，確保裝置能夠滿足龍國工業化需求。

技術封裝：對核心技術進行加密，防止國外勢力竊取技術成果。

人才培養：透過研發過程，培養一批掌握光刻機技術的人才，為下一代裝置研發奠定基礎。

許志遠看著自己寫滿了三大張紙的研發計劃，心中滿是鬥志。他深知光刻機的研發道路註定坎坷，但他也清楚，這條路一旦踏上，等待他的將是前所未有的成就。

“90奈米制程工藝雖然不是頂尖，但它是我們追趕世界的一步！”許志遠喃喃自語，眼神堅定。

……

許志遠在工業部的會議室裡，面對著幾十位官員和技術專家，鄭重其事地將光刻機研發的提案擺在了桌上。

他的語氣堅定，眼神中滿是對未來的渴望：“同志們，光刻機的研發是我們的當務之急！它不僅是晶片製造的核心裝置，更是未來工業化、現代化的基石。如果我們現在不開始研發，將永遠受制於人！”

話音剛落，會議室陷入了一陣短暫的沉默，隨後爆發出低低的議論聲。

許多官員和技術人員面面相覷，表情各異。有的滿臉疑惑，有的則眉頭緊鎖，顯然對許志遠的提案感到難以理解。

很快，一名穿著灰色中山裝的老官員站了起來，語氣裡帶著些許不滿：

“許志遠同志，我能不能問一句——你說的這個